三星电子图为,三星电子总裁李在镕(左)与半导体事业本部部长景启炫(左)结束在荷兰举行的商务会议后返回韩国。韩国联合通讯社
作者:李敏亨
三星电子为了共同开发芯片技术,将从ASML引进最先进的极紫外线(EUV)光刻设备,因此有分析认为,三星电子将大幅提高芯片生产效率。
高数值孔径(High NA) EUV是这家荷兰公司将在2024年底首次提供的下一代机器。三星和一些全球芯片制造商需要EUV光刻设备来蚀刻微芯片。ASML的高NA EUV被认为是同类产品中最尖端的产品,其价格预计将达到5000亿韩元左右(约3.5874亿美元)。
三星电子芯片事业部总裁兼首席执行官景启贤在与三星电子董事长李在镕从荷兰回国后,对三星电子与阿斯麦的最新合作感到乐观。
他在当天的记者招待会上表示:“三星电子和ASML将在京畿道东滩市建立共同研究设施,引进高NA EUV后,双方的技术人员将共同开发半导体生产的主要技术。”
李显龙和景德洙本周参加了总统对欧洲国家的国事访问,并会见了阿斯麦公司的负责人和高层管理人员。
三星电子芯片部门负责人表示:“通过与ASML的合作,从长远的角度来看,三星电子可以更好地利用这台机器来生产DRAM等芯片。”
据产业部透露,两家科技公司最近达成协议,将共同投资1万亿韩元,共同开发利用EUV设备开发芯片制造技术的研究实验室。
他表示:“EUV是制造芯片最重要的工具。“对于整个半导体供应链,我们已经获得了一个非常值得信赖的盟友。更重要的是,三星应该与ASML建立更紧密的合作关系,这样我们就可以通过共同研究来充分利用高NA EUV,而不是专注于快速推出机器。”
李总统还高度评价了此次荷兰之行取得的成果。
“最近的海外之行几乎都是关于半导体的,”Lee说,但拒绝就更多细节发表评论。
ASML的EUV机器非常昂贵,但它们的供应远远低于全球芯片制造商的需求。该机器的售价超过2000亿韩元,每年供应50台左右。